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口腔修复学(副高)

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为达到良好的抗力形，下列哪项是错误的

  • A、洞底要平，洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐
  • B、洞形要有一定的深度
  • C、邻洞应制成阶梯
  • D、邻洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面
  • E、去除薄壁弱尖
正确答案:B
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